LPP工艺和EUV技术是两种先进的光刻技术,广泛应用于集成电路制造领域。本文将介绍LPP工艺和EUV技术的特点、优势和应用,并分析其未来发展趋势。一、LPP工艺LPP工艺全称为“Lithography...
中芯n2工艺是一种先进的集成电路工艺技术,其具有高密度、高精度和高可靠性等优点,是当前主流芯片生产工艺之一。多重曝光技术则是中芯n2工艺中一种重要的技术手段,可以实现对芯片的复杂结构的高效曝光,进而提...